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æ‚(zh¨¨n)¨çŽ°åœ¨çš„ä½ç½®åQ?a href="/">首页 > 金属¼‹…粉 > 多晶¼‹…粉
详细介ç»
多晶¼‹…生产的原料是三氯氢¼‹…和氢气。按照一定的比例计入˜q˜åŽŸç‚‰å†…˜q›è¡Œçƒåˆ†è§£å’Œ˜q˜åŽŸå应åQŒäñ”生多晶硅‹‚’,三氯氢硅是用氯化氢和工业¼‹…粉在åˆæˆç‚‰å†…å应生æˆï¼Œæ°¯åŒ–氛是用氢气和氯气在氯化氢åˆæˆç‚‰å†…燃烧生æˆåQŒæ°¯æ°”æ˜¯æ°¯åŒ–é’ å·¥ä¸šç›æ°´é€šè¿‡é€šç”µ(sh¨´)å应生æˆæ°¢æ°”å›_¯ä»¥ç”¨æ°¯åŒ–é’ å·¥ä¸šç›æ°´é€šè¿‡é€šç”µ(sh¨´)å应生æˆä¹Ÿå¯ä»¥ç”¨æ°´é€šç”µ(sh¨´)ç”?sh¨´)解生äñ”åQŒå·¥ä¸šç¡…¾_‰æ˜¯ç”¨çŸ³è‹ÞqŸ¿ä¸Žç¢³åœ¨é€šç”µ(sh¨´)的情况下˜q˜åŽŸå应生æˆå·¥ä¸š¼‹…å—åQŒç»¾_‰ç¢Žå˜æˆå·¥ä¸š¼‹…粉ã€?a href="/product876337.html" target="_blank">多晶¼‹…粉是什么原料制æˆçš„多晶¼‹…的生äñ”工艺主è¦ç”±é«˜¾U¯çŸ³è‹?¾l高温焦¼„Œ™¿˜åŽ?→工业硅(酸洗)→硅¾_?åŠ HCL)→SiHCL3(¾l过¾_—馾_ùN¦)→高¾U¯SiHCL3(å’ŒH2å应CVD工艺)→高¾U¯å¤šæ™¶ç¡…ã€?/p>
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